Novellus C2
Novellus C2 PECVD 是 Applied Materials（阿普莱德材料）旗下 Novellus 系列的 PECVD 外延沉积设备。它采用 等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术，用于在晶圆表面沉积薄膜材料，广泛应用于 集成电路制造、功率器件、光电子与 MEMS 等领域。
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Veeco K465i
Veeco K465i 是美国 Veeco Instruments Inc. 推出的 TurboDisc® 氮化镓（GaN）金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统，专为高亮度 LED（HB-LED）外延片生产设计。该机型基于 Veeco 的成熟 K-Series 平台，自 2010 年推出以来成为全球 LED 制造业的重要 MOCVD 设备之一。