Aixtron爱思强GaN G4-HT
Aixtron Aix 2800G4 HT MOCVD设备以多区精准温控、高温稳定生长和快速换型三大技术突破，将8英寸GaN外延均匀性偏差压至≤2%、SiC裂纹率降至0.5%，器件良率提升14-18%，双晶圆并行生长使产能翻倍，成为5G基站、新能源汽车和深紫外LED量产的核心引擎。
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Aixtron Aixtron G4-HT用于SiC
AIXTRON G4-HT（High-Temperature）是一款由德国 AIXTRON SE 开发的高温金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统，主要用于半导体材料的外延生长与薄膜沉积。此类设备传统上用于制作 III-V 化合物材料（如 GaN 等），用于包括碳化硅（SiC）相关材料的沉积工艺中。
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Aixtron爱思强GaAs G4-TM
Aixtron G4-TM for GaAs是德国 AIXTRON SE 推出的 金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统，属于 G4（第四代）平台，专为 GaAs / InP 及其他 III-V 化合物半导体材料的高质量外延生长 而设计。该系统广泛用于高性能光电子器件与射频器件的制造
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应用材料
Applied Materials PVD 是美国 Applied Materials（应用材料公司） 推出的 物理气相沉积系统，用于在硅晶圆或其他基片上沉积高纯度、均匀且可控厚度的金属或介质薄膜。PVD 是现代集成电路互连层（Cu/Al/Ti/W 等金属）、阻挡层、接触层以及一些功能性薄膜制备的关键工艺装备
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坎德拉 8720
坎德拉 8720 是 KLA (原 KLA-Tencor) 推出的一款 先进的晶圆缺陷光学检测设备，用于高端复合半导体材料的表面和外延层缺陷快速检测与分析。它结合了多种光学检测技术和自动化 SPC（统计过程控制）流程，帮助半导体制造商提升质量控制水平与产线良率。
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Disco-DFD-6340
Disco DFD-6340 是由日本 DISCO Corporation 研发的一款 全自动高精度晶圆切割（Dicing）机，用于半导体晶圆及其他脆性材料（如蓝宝石、硅、氮化镓等）精密分割加工。该机型属于 DISCO 的 DFD 系列，是业界成熟的高性能晶圆切割设备之一。
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Disco-DFL7560L
Disco DFL7560L 是由日本 DISCO Corporation 研发的一款 全自动激光剥离（Laser Lift-Off）设备，用于半导体晶圆的材料层与基板分离等精密加工工艺。它采用 DPSS（固体激光）激光源，在保证高加工质量的同时实现高速处理与稳定重复性。
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EVG SPUTTER
EVG Sputter（溅射沉积系统） 是 EV Group (EVG) 提供的 真空溅射沉积设备，用于在各种基板上沉积薄膜材料。
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Hitachi-S9220
Hitachi S-9220 是由 日立（Hitachi） 生产的一款 高性能扫描电子显微镜（SEM），常用于半导体和纳米材料等领域的精密检测与分析。它也常见作 CD-SEM（Critical Dimension SEM），用于微纳工艺关键尺寸（CD）的测量与成像
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Nikon 11C
Nikon NSR-S11C 是日本 Nikon（尼康） 公司推出的一款 步进式光刻机（Stepper / Scanner），用于 半导体晶圆上的微细图形曝光。该设备在芯片制造过程中用于将光刻掩膜（Mask / Reticle）上的图案精准转印到光刻胶覆盖的晶圆表面，并支持高分辨率、高对位精度的微纳结构曝光。
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尼康11D
尼康11D 是日本 Nikon（尼康）公司出品的一款 投影式光刻机（Stepper／Scanner），用于半导体制造领域中的关键工艺环节—— 光刻（Photolithography）。该设备通过高精密光学系统，将光刻掩模（Mask）上的图形精准投影到涂有光刻胶的晶圆上，用于定义晶体管、电路互联等结构，是集成电路制造的核心装备之一。
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Novellus C2
Novellus C2 PECVD 是 Applied Materials（阿普莱德材料）旗下 Novellus 系列的 PECVD 外延沉积设备。它采用 等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术，用于在晶圆表面沉积薄膜材料，广泛应用于 集成电路制造、功率器件、光电子与 MEMS 等领域。
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PANalytical XRD
PANalytical XRD 指的是由荷兰 PANalytical（现为 Malvern Panalytical） 研发生产的 X 射线衍射仪器（X-Ray Diffraction，XRD）。这类设备用于材料科学、化学、矿物学、半导体、薄膜等领域的晶体结构分析与材料定性/定量检测。
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Veeco C4
Veeco C4 是美国 Veeco Instruments Inc. 生产的一款 金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统。它用于半导体行业中高性能外延材料的沉积，特别适合 III-V 化合物半导体（如 GaN、GaAs、InP 等）和相关光电电子器件的生产需求。
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Veeco K465i
Veeco K465i 是美国 Veeco Instruments Inc. 推出的 TurboDisc® 氮化镓（GaN）金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统，专为高亮度 LED（HB-LED）外延片生产设计。该机型基于 Veeco 的成熟 K-Series 平台，自 2010 年推出以来成为全球 LED 制造业的重要 MOCVD 设备之一。